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        一種仿生除濕機的制作方法

        作者:CEO 時間:2023-01-30

        信息摘要:本發(fā)明主要涉及除濕機的技術領域,具體為一種仿生除濕機。背景技術:2013年美國科學家的在《自然》上發(fā)表了對仙人掌的研究,他們發(fā)現(xiàn)仙人掌的針刺是一種高效的集水系統(tǒng),它們的針刺細長,呈倒錐狀,表面粗糙,錐尖朝下,當水分子流經(jīng)錐刺表面時,附

        一種仿生除濕機的制作方法

        一種仿生除濕機的制作方法

          本發(fā)明主要涉及除濕機的技術領域,具體為一種仿生除濕機。

          背景技術:

          2013年美國科學家的在《自然》上發(fā)表了對仙人掌的研究,他們發(fā)現(xiàn)仙人掌的針刺是一種高效的集水系統(tǒng),它們的針刺細長,呈倒錐狀,表面粗糙,錐尖朝下,當水分子流經(jīng)錐刺表面時,附著于錐尖表面,由于錐尖處的拉普拉斯力大于錐底處,水分子克服重力的作用向上游動,最終匯集到錐底部,實現(xiàn)水份收集,目前無依據(jù)植物吸水原理制成的仿生除濕機,因此本發(fā)明參考仙人掌吸水原理,發(fā)明一種仿生除濕機。

          技術實現(xiàn)要素:

          本發(fā)明主要提供了一種仿生除濕機,用以解決上述背景技術中提出的技術問題。

          本發(fā)明解決上述技術問題采用的技術方案為:

          一種仿生除濕機,包括機箱本體,該機箱本體內(nèi)設有除濕組件,所述機箱本體包括箱體,所述箱體兩側(cè)對稱設有通風口;所述除濕組件包括半導體制冷片,所述半導體制冷片設置在箱體內(nèi)壁靠近通風口的一側(cè),所述半導體制冷片遠離通風口的一側(cè)設有第一風機,所述第一風機遠離半導體制冷片的一側(cè)設有過濾網(wǎng),所述過濾網(wǎng)遠離第一風機的一側(cè)設有第二風機,所述第二風機與過濾網(wǎng)之間設有銅錐刺與水箱,所述銅錐刺通過進水孔設置在水箱內(nèi)壁。

          進一步的,半導體制冷片靠近第一風機的一側(cè)為熱端,遠離第一風機的一側(cè)為冷端。

          進一步的,半導體制冷片下端貫穿箱體設有第一水盤。

          進一步的,過濾網(wǎng)與第一風機之間所形成的空間為第一除濕腔。

          進一步的,銅錐刺遠離水箱的一端逐漸變小,且表面粗糙。

          進一步的,銅錐刺靠近進水孔的一端外徑小于進水孔。

          進一步的,銅錐刺與水箱為45°角傾斜安裝在箱體內(nèi)壁。

          進一步的,銅錐刺下端貫穿箱體設有第二水盤。

          進一步的,水箱靠近第二水盤的一端設有出水孔。

          進一步的,過濾網(wǎng)與第二風機之間所形成的空間為第二除濕腔。

          與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明的有益效果為:

          該仿生除濕機,第一風機強制吸入空氣,空氣從通風口進入第一除濕腔中,半導體制冷片冷端對空氣進行冷卻,當空氣溫度低于露點溫度時,水份從空氣中釋出,凝結在半導體制冷片表面,滴落入第一水盤中,經(jīng)降溫除溫后的空氣流經(jīng)半導體制冷片熱端,熱空氣流經(jīng)銅錐刺表面時,水分子附著于銅錐刺表面,銅錐刺表面粗糙,依據(jù)拉普拉斯公式,曲率半徑越小曲面兩側(cè)壓力差越大,因此錐尖處的拉普拉斯力大于錐底處,水分子克服重力的作用向上游動,最終匯集到水箱中,從而進一步的實現(xiàn)了除濕機的仿生。

          以下將結合附圖與具體的實施例對本發(fā)明進行詳細的解釋說明。

          附圖說明

          圖1為本發(fā)明的整體平面結構示意圖;

          圖2為本發(fā)明的整機結構示意圖;

          圖3為本發(fā)明的銅錐刺與水箱結構示意圖;

          圖4為本發(fā)明的水箱局部放大結構示意圖。

          圖中:1、機箱本體;11、箱體;11a、通風口;12、第一水盤;13、第二水盤;2、除濕組件;21、半導體制冷片;22、第一風機;23、第一除濕腔;24、過濾網(wǎng);25、銅錐刺;26、第二風機;27、第二除濕腔;28、水箱;28a、出水孔;28b、進水孔。

          具體實施方式

          為了便于理解本發(fā)明,下面將參照相關附圖對本發(fā)明進行更加全面的描述,附圖中給出了本發(fā)明的若干實施例,但是本發(fā)明可以通過不同的形式來實現(xiàn),并不限于文本所描述的實施例,相反的,提供這些實施例是為了使對本發(fā)明公開的內(nèi)容更加透徹全面。

          需要說明的是,當元件被稱為“固設于”另一個元件,它可以直接在另一個元件上也可以存在居中的元件,當一個元件被認為是“連接”另一個元件,它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件,本文所使用的術語“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的。

          除非另有定義,本文所使用的所有的技術和科學術語與屬于本發(fā)明的技術領域的技術人員通常連接的含義相同,本文中在本發(fā)明的說明書中所使用的術語知識為了描述具體的實施例的目的,不是旨在于限制本發(fā)明,本文所使用的術語“及/或”包括一個或多個相關的所列項目的任意的和所有的組合。

          請著重參照附圖1-4,一種仿生除濕機,包括機箱本體1,該機箱本體1內(nèi)設有除濕組件2,所述機箱本體1包括箱體11,所述箱體11兩側(cè)對稱設有通風口11a;所述除濕組件2包括半導體制冷片21,所述半導體制冷片21設置在箱體11內(nèi)壁靠近通風口11a的一側(cè),所述半導體制冷片21遠離通風口11a的一側(cè)設有第一風機22,所述第一風機22遠離半導體制冷片21的一側(cè)設有過濾網(wǎng)24,所述過濾網(wǎng)24遠離第一風機22的一側(cè)設有第二風機26,所述第二風機26與過濾網(wǎng)24之間設有銅錐刺25與水箱28,所述銅錐刺25通過進水孔28b設置在水箱28內(nèi)壁。

          請著重參照附圖1,所述半導體制冷片21靠近第一風機22的一側(cè)為熱端,遠離第一風機22的一側(cè)為冷端,所述半導體制冷片21下端貫穿箱體11設有第一水盤12,所述過濾網(wǎng)24與第一風機22之間所形成的空間為第一除濕腔23;在本實施例中,空氣從通風口11a進入第一除濕腔23中,半導體制冷片21冷端對空氣進行冷卻,當空氣溫度低于露點溫度時,水份從空氣中釋出,凝結在半導體制冷片21表面,滴落入第一水盤12中,從而進一步的實現(xiàn)對空氣進行初步除濕的作用。

          請著重參照附圖1、3、4,所述銅錐刺25遠離水箱28的一端逐漸變小,且表面粗糙,所述銅錐刺25靠近進水孔28b的一端外徑小于進水孔28b;在本實施例中,銅錐刺25表面粗糙,依據(jù)拉普拉斯公式,水分子可克服重力的作用向上游動,進水孔28b起到使水進入水箱28的作用,從而進一步的對空氣進行除濕的作用。

          請著重參照附圖1和3,所述銅錐刺25與水箱28為45°角傾斜安裝在箱體11內(nèi)壁,所述銅錐刺25下端貫穿箱體11設有第二水盤13,所述水箱28靠近第二水盤13的一端設有出水孔28a,所述過濾網(wǎng)24與第二風機26之間所形成的空間為第二除濕腔27;在本實施例中,通過銅錐刺25與水箱28為傾斜狀態(tài),從而進一步的實現(xiàn)當水分子接觸到箱體11內(nèi)壁時,水分子受到重力的影響從出水孔28a中流出滴落到第二水盤13中。

          本發(fā)明的具體操作方式如下:

          第一風機22強制吸入空氣,空氣從通風口11a進入第一除濕腔23中,半導體制冷片21冷端對空氣進行冷卻,當空氣溫度低于露點溫度時,水份從空氣中釋出,凝結在半導體制冷片21表面,滴落入第一水盤12中,經(jīng)降溫除溫后的空氣流經(jīng)半導體制冷片21熱端,熱端對空氣進行升溫,因半導體的冷熱兩端溫差極大,經(jīng)升溫后的熱空氣相當于沙漠中炎熱干燥的空氣,第一風機22將熱空氣排入第二除濕腔27,使第二除濕腔27中形成類似沙漠的空氣環(huán)境,過濾網(wǎng)24過濾空氣中的灰塵及降低空氣流速,延長空氣流經(jīng)銅錐刺25的時間,熱空氣流經(jīng)銅錐刺25表面時,水分子附著于銅錐刺25表面,銅錐刺25表面粗糙,依據(jù)拉普拉斯公式,曲率半徑越小曲面兩側(cè)壓力差越大,因此錐尖處的拉普拉斯力大于錐底處,水分子克服重力的作用向上游動,最終匯集到水箱28中,匯集的水通過水箱28的出水口滴落入第二水盤13中,同時,為預防當空氣中濕度過大,銅錐刺25表面因集了過多的水份,造成水滴的重力大于拉普拉斯力而掉落的問題,在銅錐刺25底裝有第二水盤13,用于收集掉落的水滴,第二風機26將除濕后的空氣由通風口11a排出。

          上述結合附圖對本發(fā)明進行了示例性描述,顯然本發(fā)明具體實現(xiàn)并不受上述方式的限制,只要采用了本發(fā)明的方法構思和技術方案進行的這種非實質(zhì)改進,或未經(jīng)改進將本發(fā)明的構思和技術方案直接應用于其他場合的,均在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。

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